Lwil oliv ak plak asye platfòm lanmè nan spesifikasyon En 10225, klas asye S355G 2+N ak tretman chalè nòmal.S355G2+N platfòm lwil olivplak asye ki pwodui nan spesifikasyon sa a yo itilize pou konstriksyon soude nan estrikti lanmè nan seksyon kritik chwazi ki dwe montre pwopriyete enpak bon ak rezistans nan fatig ak nan -epesè oswa chire lamèl. Itilizasyon prensipal asye sa yo se nan jwenti tubulaires, konstriksyon plak rèd, ak lòt entèseksyon kote pati plak yo pral sibi tansyon nan direksyon -epesè (Z).
Kondisyon teknik ak sèvis adisyonèl pou plak asye S355G2+N:
TÈS Z (Z15,Z25,Z35)
Tès enpak tanperati ki ba
Tès ultrasons anba EN 10160, ASTM A435, A577, A578
Yo te bay sètifika tès orijinal Mill anba EN 10204 FÒMA 3.1/3.2
Piki eksplozif ak penti, koupe ak soude selon demann itilizatè fen a
Pwopriyete mekanik pou plak asye S355G2+N:
| Epesè (mm) | |||||||
| S355G2+N | Mwens pase oswa egal a 16 | >16 Pi piti oswa egal a 25 | >25 Mwens oswa egal a 40 | >40 Mwens oswa egal a 63 | >63 Mwens pase oswa egal a 100 | > 100 | |
| Fòs sede (pi gran pase oswa egal a Mpa) | 355 | 345 | 345 | 345 | 345 | 345 | |
| Mwens pase oswa egal a 100 | > 100 | ||||||
| Fòs rupture (Mpa) | 470-630 | 470-630 | |||||
Konpozisyon chimik pou plak asye S355G2+N (Analiz Louch Max%)
| Pwensipal eleman chimik konpozisyon plak asye S355G2+N | ||||||
| C | Si | Mn | P | S | Kr | Mo |
| 0.20 | 0.50 | 0.90-1.65 | 0.035 | 0.030 | 0.30 | 0.10 |
| Ni | Alt min. | Cu | N | Nb | Ti | V |
| 0.50 | 0.020 | 0.35 | 0.015 | 0.060 | 0.030 | 0.12 |
